TCL华星创新中心开发全新量子点图案化技术

读特客户端·深圳新闻网2021年8月12日讯（宝安日报记者 李军涛）近日，记者从TCL华星公司了解到，该公司创新中心开发全新量子点图案化技术。该技术是一种新型的选择性电沉积技术，实现了大于1000PPI的全色大面积量子点（QDs）图案化彩膜及高性能QLED器件的制备。而且，TCL华星创新中心联合南科大、北大在国际著名期刊《自然-通讯》（Nature Communications）在线发表相关研究论文。

据了解，量子点材料具有尺寸可控、发射波长可调、发射光谱窄、发光效率高等优点，近年来受到了广泛的关注。作为一种半导体功能材料，其在显示器件、照明器件、光伏太阳能电池、光电探测器等领域均具有巨大的应用潜力。

TCL华星创新中心研究团队受到偏振发光的量子棒有序化需要高频率交变电场驱动，否则将发生沉降现象的启发，通过分析发现，由无机半导体核和有机配体壳组成的胶体QDs，其配体可能在溶液中解离，因此QDs表面可能富含阴离子或阳离子，带电的QD可以在电场的作用下沉积到相反电性的电极上。基于此，TCL华星创新中心研究团队利用高分辨率光刻微电极技术结合温和的电沉积技术开发了一种新型的QD选择性电沉积(SEPD)图案化技术，实现了单电极上高效、均匀、大面积的全色QD图案化薄膜制备。

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